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　　交通安全★◈，新材料★◈，燃气管路★◈，尊龙凯时★◈，消防设备★◈！尊龙凯时 - 人生就是搏!★◈，图b）它是一种平行板结构装置★◈。衬底放在具有温控装置的下面平板上★◈，压强通常保持在133Pa左右★◈，射频电压加在上下平行板之间★◈，以在实验室中使用★◈。 种PECVD装置

　　图（c）是一种扩散炉内放置若干平行板★◈、由电容式放电产生等离子体的PECVD装置★◈。它的设计主要为了配合工厂生产的需要★◈，增加炉产量

　　膜★◈。PECVD沉积SiNx薄膜是利用SiH4和NH3（或者混入适量N2）★◈，通过等离子辉光放电斗罗大陆之七怪互欲交尊龙棋牌版本合集★◈，

　　那么究竟PECVD的作用原理是怎么样的呢？我们知道沉积膜目的是减反射和钝化★◈，因此PECVD的工作原理必然与此二者有关★◈。

　　如果硅表面没有减反射膜★◈，在真空或大气中有约三分之一的光被反射★◈，即使硅片表面已进行结构化处理斗罗大陆之七怪互欲交★◈，由于入射光在金字塔绒面产生多次反射而增加了吸收★◈，也有约11%的反射损失尊龙棋牌版本合集★◈。

　　而如果在硅表面制备一层透明的介质膜★◈，由于介质膜的两个界面上的反射光互相干涉尊龙棋牌版本合集★◈，可以在很宽波长范围内降低反射率★◈。此时反射率由下式给出★◈：

　　当在低压气体施加一个射频电场或者微波时★◈，其中少量的自由电子ห้องสมุดไป่ตู้可以在两次碰撞之

　　1245*635★◈，每片大约100元是普通玻璃的4-5倍尊龙棋牌版本合集★◈。具有高透光率★◈、低电阻率和绒面结构★◈，通过对光折射和反射具有较大的吸光率★◈。生产过程需要保持膜面的洁净尊龙棋牌版本合集★◈。

　　例子★◈：在PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子★◈，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应★◈。衬底温度通常保持在350℃左右就可以得到良好的SiOx或SiNx薄膜★◈，可以作为集成电路最后的钝化保护层★◈，提高集成电路的可靠性斗罗大陆之七怪互欲交★◈。

　　作为设备部技术员来河生产部★◈，我的任务主要是熟悉整个薄膜电池的实际生产工艺流程★◈，学习PECVD和CVD设备的相关技术知识★◈，与此同时也是对个人在一线的磨练斗罗大陆之七怪互欲交★◈。目前★◈，我担任PECVD工序上料部分的工作斗罗大陆之七怪互欲交★◈。以下是本周的工作总结★◈：

　　虽环境温度(100-300℃)★◈，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解★◈，离解和离化★◈，从而大大 提高了参与反应物的活性★◈。

　　因此★◈，这些具有高反应活性的中性物质很容易被吸附到较低温度的基本表面上★◈，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜尊龙棋牌版本合集★◈。

　　式中★◈，r1★◈、r2分别是外界介质-膜和膜-硅界面上的菲涅尔反射系数★◈；△为膜层厚度引起的相位角★◈。经计算可得★◈，对于太阳光谱,取微米 ,如果电池直接暴露在真空或大气中使用★◈，最匹配的减反射膜折射率为n≈斗罗大陆之七怪互欲交★◈。

　　是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离★◈，在局部形成等离子体★◈，而等离子体化学活性很强★◈，很容易发生反应★◈，在基片上沉积出所期望的薄膜★◈。为了使化学反应能在较低的温度下进行★◈，利用了等离子体的活性来促进反应★◈，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).